簡要描述:液氧中烴類雜質(zhì)分析氣相色譜儀產(chǎn)品簡介:適用領(lǐng)域空氣分離制氧過程控制分析、煉鋼用氧氣中烴類雜質(zhì)分析。產(chǎn)品詳情:GC-9820氣相色譜儀☆ 適用領(lǐng)域:空氣分離制氧過程控制分析、煉鋼用氧氣中烴類雜質(zhì)分析。
產(chǎn)品分類
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品牌 | 上?;莘?/td> | 儀器種類 | 實驗室 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 3萬-5萬 |
適用行業(yè) | 通用型 |
液氧中烴類雜質(zhì)分析氣相色譜儀主要特點:
1、儀器采用中文LCD屏幕顯示技術(shù),顯示直觀、操作方便。
2、鍵盤數(shù)字調(diào)零技術(shù),方便使用者對各項操作數(shù)據(jù)進行設(shè)定。
3、數(shù)據(jù)斷電保護功能,儀器所設(shè)定的參數(shù)斷電后能長期保存,真正實現(xiàn)了一鍵啟動及停止。
4、微機控制FID檢測器自動點火,具有秒表計時功能。
5、具有超溫保護裝置。溫度超過設(shè)定極艱,儀器均會停止加熱,并在顯示器上報告故障。
6、采用微處理器的溫度控制電路,各加熱區(qū)被控對象的溫度精度達到0.1度。
7、智能化的雙后開門技術(shù),保證儀器柱箱溫度有良好的控溫精度,能快速降溫。
8、八階程序升溫,適應(yīng)寬沸點的復(fù)雜樣品的分析。
9、單元式整體結(jié)構(gòu)設(shè)計,安裝、維修方便。
10、儀器設(shè)計合理靈活,可以同時安裝三種檢測器,并且有獨立電路系統(tǒng)、信號輸出端。
11、靈活的填充柱和毛細(xì)管柱系統(tǒng),可接不同口徑的毛細(xì)管柱。
12、具有斷氣保護及中文提示功能,可保護TCD鎢絲和色譜柱不受損害。
13、自我診斷功能,具有“0℃”保護功能。當(dāng)任一路溫度顯示始終為“0℃”時,均會自動停止加熱,以防 該室始終加熱導(dǎo)致加熱體損壞.并有中文提示故障原因及報警提示。
14、通過中文顯示器直觀的顯示出儀器參數(shù),通過人性化軟件操作界面,方便用戶設(shè)定包括各路溫度、程升、檢測器、橋流等參數(shù);直觀地操作開關(guān)橋流,開啟關(guān)閉控溫,開啟關(guān)閉程升和各個時間事件等功能。
15、儀器電腦連接互聯(lián)網(wǎng),可通過遠程計算機與儀器連接,實現(xiàn)遠程數(shù)據(jù)采集和管理。提高了裝置的自由度,促進實驗室的有效應(yīng)用。
16、主控電路采用了功能良好的微處理器、大容量的存儲器的采用,使數(shù)據(jù)的保存更加可靠
。同時集測量、控制、電源于一塊電路板的一體化設(shè)計提高了儀器的抗干擾性和可靠性。
液氧中烴類雜質(zhì)分析氣相色譜儀主要技術(shù)指標(biāo):
1、溫控指標(biāo):
柱箱:室溫上5℃-420℃精度±0.1℃(200℃時測)。
進樣器:室溫上5℃-420℃精度±0.1℃(200℃時測)。
檢測器:室溫上5℃-420℃精度±0.1℃(200℃時測)。
六路控溫:適用于加裝轉(zhuǎn)化爐等多路控溫需求。
2、柱溫箱參數(shù):
控溫精度:室溫上5℃-420℃精度±0.1℃。
柱溫箱體積:280mm×280mm×250mm。
程序升溫階數(shù):八階。
程序升溫速率:1℃-50℃。
各階恒溫保持時間:0-300min(1min增量)。
自動后開門設(shè)計,確??焖俳禍?/span>。
大功率、低噪音的旋轉(zhuǎn)風(fēng)扇,確保溫度的均勻性。
3、穩(wěn)定的雙氣路系統(tǒng):
載氣流量采用先穩(wěn)壓后穩(wěn)流的雙重穩(wěn)定設(shè)計。
氣路控制閥件,具有高重現(xiàn)性和高穩(wěn)定性。
4、多種進樣方式可選:
填充柱柱頭進樣。
填充柱氣化進樣。
毛細(xì)管分流/不分流進樣:背壓閥控制技術(shù),線性分流。
六通閥氣體進樣。
高靈敏度檢測器參數(shù),確保數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性
檢測器 | 敏感度/靈敏度 | 噪音 | 漂移 | 線性 | 特點 |
FID | Mf≤5×10-12g/s(苯) | ≤ 0.02mV | ≤ 0.15mV/h | ≥107 | 圓形收集極,剛玉瓷噴嘴 |
TCD | S≥5000mV.ml/mg(苯) | ≤ 0.02mV | ≤ 0.15mV/h | ≥105 | 進口錸鎢絲、恒流供電 |
ECD | M≤1×10-13g/ml(r-666) | ≤ 0.02mV | ≤ 0.15mV/h | ≥104 | 耐高溫Ni63放射源 |
FPD | Mp≤2×10-11g/sec(1605) Ms≤5×10-11g/sec(噻吩) | ≤ 0.02mV | ≤ 0.15mV/h | ≥103 | 單火焰設(shè)計、用于殘留分析 |
NPD | Mf≤5×10-12g/s( 偶氮苯 ) Mf≤5×10-12g/s | ≤ 0.02mV | ≤ 0.15mV/h | ≥103 | 進口銣珠、用于殘留分析 |
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